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工業(yè)半導體超純水設備有哪些

半導體設備，包括半導體硅片制造中的清洗設備、蝕刻處理設備、清洗工藝等。集成電路是當今世界上最大、最復雜的電子產(chǎn)品之一，集成電路已成為一種重要的電子產(chǎn)品。目前，國際上主流的集成電路制造工藝為外延、芯片制作、封裝以及測試工藝所組成。其中，硅片制造采用外延技術，芯片制作則是芯片生產(chǎn)中最為關鍵的環(huán)節(jié)之一。而用超純水對硅片進行清洗及蝕刻是使硅片表面達到潔凈級的方法之一，在目前國內還沒有成熟設備可用于此項工作。

一、超純水制備過程

超純水制備過程，主要是指通過反滲透設備（RO）對原水進行預處理，去除水中的懸浮物、膠體等雜質；再利用陽離子交換樹脂去除水中的有機物、細菌等有害物質；最后通過高壓蒸餾裝置，用純水進行進一步純化處理，使原水達到超純水標準。在此過程中，需注意以下幾點：

1、對于不需要進一步純化處理的原水中有有機物、細菌超標的情況下，可采用離子交換樹脂去除這些物質；2、對于需要較高純度水的系統(tǒng)如：半導體制造工藝中用于清洗工藝設備需用高純度超純水；

3、在選擇反滲透膜組件時應盡量避免使用膜通量偏低或者截留率偏高的設備，以保證正常使用時不會因超濾膜通量低導致反滲透系統(tǒng)結垢。

二、設備構成及技術指標：

采用 RO膜處理工藝， RO設備由三個部分組成：膜池、純化水箱、控制箱。RO設備的運行原理為：在純水器內加入一定量的混凝劑，通過混凝沉淀將水中雜質及膠體物質分離去除；然后再經(jīng)過一系列工藝過程來達到超純水的生產(chǎn)要求。純化水箱用來儲存超純凈水、純水、有機溶液及其他雜質，控制箱是對整個系統(tǒng)運行的一個監(jiān)控系統(tǒng)，當 RO裝置正常運行時，產(chǎn)水通過控制箱直接與純水和有機溶液相連。

三、主要技術參數(shù)：

1、原水水質：純水標準；

2、運行成本：不含電導率，運行費用低；

3、純水通量：10L/h左右。

四、典型應用實例介紹：

超純水設備可用于半導體行業(yè)中超純水生產(chǎn)的工藝流程，主要包括離子交換膜清洗、反滲透純化以及后續(xù)的化學清洗。該工藝可用于大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的硅片清洗及蝕刻，并可進一步減少硅雜質和提高電性能。在實際應用中，通常將高純水系統(tǒng)和化學清洗系統(tǒng)進行有機結合，采用多層膜分離技術對產(chǎn)水水質進行監(jiān)控、管理及控制，使產(chǎn)水量達到規(guī)定要求。采用超純水設備對半導體芯片生產(chǎn)線進行制膜操作，使其產(chǎn)水水質可達到國家規(guī)定的超純（超純?yōu)?-10倍）和高純（含雜質≤0.003 mg/L，可保證集成電路生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的雜質、水垢等對生產(chǎn)工藝影響最小）。該系統(tǒng)可以確保產(chǎn)水量的穩(wěn)定性及可控性，是高純超純水生產(chǎn)企業(yè)理想的解決方案。