超純水設備在電子半導體行業(yè)的應用是非常重要的,因為電子半導體制造對水質(zhì)有極高的要求,需要非常純凈的水源來保證產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。我來說說超純水設備在電子半導體行業(yè)的應用。
晶圓清洗:在半導體制造工藝中,硅片是核心材料之一。晶圓清洗需要使用高純水,以保證晶圓表面不受污染,從而保證電子元器件的質(zhì)量。
電鍍:在半導體制造中,需要進行金屬電鍍等工藝。超純水的使用可防止雜質(zhì)和離子進入電鍍液,保證電鍍質(zhì)量。
蝕刻和清潔:蝕刻和清潔工藝是半導體制造過程中所必需的,這些步驟需要使用高純水,以避免任何有害的殘留物。
高純度化學品的制造:超純水可作為制備這些化學品的原料。
光致抗蝕劑和薄膜的制造:用于稀釋和制備光致抗蝕劑和薄膜的材料。
半導體設備的清洗和冷卻:半導體設備需要定期清洗和冷卻,使用超純水可以防止任何雜質(zhì)進入設備內(nèi)部。
電子元器件的組裝:在電子元器件的組裝過程中也使用了超純水,以保證組裝后的元器件的質(zhì)量和可靠性。
1. 半導體和晶圓材料的生產(chǎn)、加工和清洗步驟。
2. 生產(chǎn)高品質(zhì)顯像管和熒光粉。
3. 用純水作超純材料和超純化學試劑。
4.生產(chǎn)液晶顯示屏所需的純凈水清洗和純凈水分配。
5. 材料、設備、集成電器、印刷電路板在半導體工業(yè)中的應用。
三效蒸發(fā)器是由相互串聯(lián)的三個蒸發(fā)器組成,低溫(90℃左右)加熱蒸氣被引入第一效,加熱其中的廢液,產(chǎn)生的蒸氣被引入第二效作為加熱蒸氣,使第二效的廢液以比第一效更低的溫度蒸發(fā),這個過程一直重復到最后一效。第一效凝水返回熱源處,其它各效凝水匯集后作為淡化水
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